直拉式单晶炉金华兰溪离子泵附近的电话观察窗 抽真空管道 组成\炉筒：包括取光孔\下炉筒：包括抽真空管道\底座机架：全铸铁机架和底座\坩埚下传动装置：主要由磁流体 电机 坩埚支撑轴 减速机 软波纹管 立柱 上下传动支撑架 导轨 等部件组成\分水器已经水路布置：包括分水器，进水水管。翻板阀提拉头：主要由盘 减速机 籽晶腔 划线环 电机 磁流体 籽晶称重头 软波纹管等其他部件组成\副室：主要是副室筒以及上下法兰组成\ 炉盖：副室连接法兰若干胶管 水管卡套等\氩气管道布置：质量流量计 3根以上的柔性管 不锈钢管 3个压力探测器 高密封性卡套 等部件\ 真空泵以及真空除尘装置：油压真空泵 水环真空泵 过滤器 真空管道 硬波纹管等\电源以及电控柜：电源柜 滤波柜 控制柜 以及连接线。3，主电路，控制电路和辅助电路应分绘制。主电路是设备的驱动电路，是从电源到电动机大电流通过的路径，控制电路是由接触器和继电器线圈，各种电器的触点组成的逻辑电路，实现所要求的控制能，辅助电路包括信号，照明，保护电路。
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也叫切克劳斯基（J.Czochralski）方法。此法早在1917年由切克劳斯基建立的一种晶体生长方法上硅单晶的产量中70%～80%是用直拉法生产的。再由齿轮齿条机构带动的。在单晶炉中，要求提拉单晶硅的提拉杆不仅能以某一期望线速度V向上(下)运动，而且当提拉负载增大引起线速度为零时，提拉杆能保持其后位置而不上下滑动。对晶体的提拉速度有十分严格的要求，从某种程度上讲提拉速度的控制好坏将直接影响到晶体的质量。对单晶硅生产过程中的提拉速度控制系统进行研究有实际意义。对提拉控制系统提出的主要技术指标是，提拉速度在0.2～10.0mm/h范围之内实现无级可调，线性精度大于±2%。生产集成电路所需要的单晶硅，是在硅结晶生长始时。二手单晶炉设备，单晶硅炉，整流柜，补偿柜，电力柜，整流柜，电源柜，高频电炉，中频电炉，电炉感应炉，单晶炉，单晶硅炉，电力锅炉，中频炉，高风炉，井式炉。直拉式单晶炉设备回类熔铝炉产品迅速占领了IC级硅材料行业和 太阳能行业。
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主要服务江浙地区（南京市，镇江，常州，无锡市，苏州，南通，太仓，昆山，宜兴，江阴，启东，海门，张家港，宣城，常熟，湖州，嘉兴，杭州，绍兴，宁波，舟山市）
主机部分：机架单晶硅生长炉原理简介单晶硅生长炉的特点\单晶硅生长炉是通过直拉法生产单晶硅的设备。主要由主机高像素CCD测径ADC系统和具有知识产权的“全自动Cz法晶体生长SCADA系统”，可实现从抽真空—检漏—炉压控制—熔料—稳定—溶接—引晶—放肩—转肩—等径—收尾—停炉全过程自动控制。后，待大部分硅溶液都已经完成结晶时，再将晶体逐渐缩小而形成一个尾形锥体，称为收尾工艺。这样一个单晶拉制过程基本完成，进行一定的保温冷却后可以取出。放大晶体直径到工艺要求的大小，一般为75～300mm，这个过程称为放肩，接着，突然提高拉速进行转肩操作，使肩部近似直角，然后，进入等径工艺，通过控制热场温度和晶体提升速度。分子泵，真空泵，真空流量计，plc编程，控制屏，离子泵，涡轮分子泵，螺杆真空泵，涡旋高真空泵，影 响排气效果，气流导向装置20的电极孔2-2分别与该炉的电极柱15密封连 接，以防止因该电极孔2-2与电极柱15之间的间隙而漏气，影响排气效果。所述气流导向装置20的上端部2-4的外壁与该炉的保温 筒17密封连接，以防止因气流导向装置20的上端部2-4的外壁与该炉的 保温筒17之间的间隙而漏气，影响排气效果。以防止因该中轴孔2-1与石墨中轴21之间的间隙而漏气所述气流导向装置20的中轴孔2-1与该炉的石墨中轴21活 动密封连接所述气流导向装置20各通气孔2-3与该炉的排气口 13通过通 气管19相连通，以提高排气效果。所述气流导向装置20由石墨制成，石墨具有强度高，抗热震性好，耐 高温，抗氧化，电阻系数小，耐腐蚀，易于精密机等优点。
